核動力都出來了,你說你本科生?  第085章 研發成功了

類別: 科幻 | 星際文明   作者:秋聲雨霖  書名:核動力都出來了,你說你本科生?  更新時間:2023-05-21
 
南江戰略研究基地,光電研究實驗室。

此時,整個研究基地已經恢復了秩序。

低頻脈沖造成的影響確實挺大,不過持續時間也不過半個小時不到。

最主要是蘇川在如此短暫的時間中,就取得了研發成果。

這一點狠狠的擊中了眾人的心臟。

在整個刑天計劃中,只有蘇川這位總工程師是沒有任何的團隊以及助理的。

也就是這些科學研究成果都是蘇川一個人獨立完成。

他們這些帶著各自團隊進行研發的科學家,別說是獲得成果了。

直到現在,甚至連階段性的進展都沒有了。

這讓參與刑天計劃的這些專家以及科學家如何不敬佩蘇川?

很顯然,方舟反應爐的誕生,狠狠的激勵了所有人。

如果蘇川認真的觀察系統面板上的研究進度。

那么他就能夠看到,機械動力裝甲的進度提升速度,比起往日至少增減了50!

當然,哪怕是如此大幅度的提升,對于整個任務的進度而言,提升依舊緩慢。

光電實驗室中,此刻正在對于光刻機的研發,不斷的作出嘗試。

賀老帶著一副老花鏡,一直守在機器旁邊。

直到機器運作結束,立刻就有人將冷卻過后的芯片送到了賀志遠的手中。

作為光電研究負責人,光刻機的研發同樣是他盯著進行的。

“賀老,您看看!”

此刻的“芯片”還不能夠稱之為芯片,嚴格意義上來說,應該稱之為晶圓。

這是一種集成電路半導體的原材料!

目前的晶圓也僅僅只是經過了光刻這一個步驟而已。

在此之后還需要進行蝕刻,添加化學離子混合劑,使得光刻、蝕刻后的每個晶體管都能夠充足的打開!

經過這些流程過后,晶圓才能夠被稱之為芯片。

最后在經過測試以及調試,這些芯片就能夠正式的投入使用了。

賀志遠取下了眼睛,在晶圓上大致的看了一眼。

整體并沒有太多的雜質!

接下來的觀察,還需要專門的設備進行查驗。

畢竟納米級別的光刻痕跡,別說是肉眼了。

哪怕是一般的顯微鏡都沒有辦法看到。

必須要納米級別的光學顯微鏡才能夠觀察到。

這種顯微鏡的顯示倍數至少也是1000倍規模。

只見賀老腳步匆匆,親自將晶圓放在專門的檢驗儀器上。

在一旁的電子屏幕上,很快就浮現出,經過放大后,晶圓表面的情況。

一個合格的光刻機,制造出來的晶圓,表面的情況應該與他們光刻模板幾乎一致。

同時至少也要保證90以上的成功率!

“賀老,這一批的晶圓效果怎么樣?”

在一旁的光刻操作人員詢問道。

實驗室中,所有人都在等待著賀老的結果。

賀志遠并沒有說話,用他手不斷拖動著鼠標,觀察著晶圓的情況。

畢竟是精確到納米級別的光刻機!

這一項研究對于他們而言,顯然也充滿了十足的挑戰!

很快,他就皺起眉毛來了。

在無數研究人員的注視下,賀老平靜搖了搖頭。

只見他轉過身來,念出了幾個坐標。

“你們注意一下142,64還有7,69這兩個坐標。”

“這兩個坐標的附近,幾乎都有34納米的誤差!”

他從儀器中,取出了檢驗的晶圓平靜的說道。

“這么高的誤差,表示我們依舊無法生產10納米以下的芯片!”

“距離目前世界上高精度芯片還有著相當的距離。”

圍繞在一旁的研究人員,以及專家無不底下頭來。

話雖然是這么說,可對比起他們之前的光刻機技術已經成長了許多了。

盡管成功率不算高,在此之前也已經制造出幾片5納米規格的芯片。

賀老平靜的說道。

“另外,我在這里宣布一個好消息,以及一個壞消息。”

賀志遠的聲音,讓眾人再度抬起頭來。

這種說話語氣,可不像是賀老啊。

不過,光電研究團隊,還是流露出好奇。

“賀老,您說!”

賀志遠點了點頭,平靜的說道。

“目前,其實我們的曝光系統其實已經基本沒有問題。“

“脈沖冷激光經過反射后,完全能夠用于光刻。”

他的語氣一頓,繼續說道。

“先說壞消息。”

“現在的問題在于,光刻機的對準系統出現了問題。”

“在晶圓光刻后,始終會出現一定的偏差!”

賀志遠突然流露出一絲微笑。

“至于好消息是,我已經想到了解決這個問題的方法!”

“如果不出意外,目前我們所掌握的光刻技術,至少能夠制造出1納米級別的芯片!”

正當眾人準備鼓掌的時候。

賀志遠舉起了手制止了眾人。

“還沒成功呢!”

“何況這點成就,與蘇總工的冷核聚變來說,根本不足為題。”

“你們快去將光刻機的模具拿過來,還有光刻機對準系統的工作日志打印下來。”

“我現在就要對于光刻機的對準系統,進行改良!”

在賀老的言語之下,實驗室里的眾人立刻忙碌了起來。

賀志遠看著頭頂明亮的燈泡,流露出笑容。

其實能夠在這么短的時間內,光刻機取得階段性的進展,還是取決于蘇川。

首先是,對于蘇川提出脈沖冷激光的想法,直接改變了他的思路。

這段時間,他們一直在研究脈沖冷激光。

在此之前,嘗試的極紫外光最多也就保證10納米到15納米精度的光刻。

脈沖冷激光則既然相反。

在理論上甚至能夠達到1納米級別,甚至更為精細的光刻!

他們在短時間內,光刻機的核心技術,曝光系統突飛猛進。

反而是對準系統,開始拖后腿了。

不過在今天發生的低頻電磁脈沖意外后。

實驗室里不斷閃爍的燈光,給了賀老靈感。

沒錯,對準系統的解決方法很簡單。

只需要反復關閉啟動脈沖冷激光,以閃爍的方式進行光刻,在光刻中因為持續運作所造成的誤差,可以大幅度減少。

賀老看著幾名工作人員遞交過來的對準系統運行日志,以及晶圓模具笑了起來。

一切與他計算的一致!

從另外的一個角度來說。

大夏的高精度光刻機,已經可以提前宣布,研發成功了!

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